¿De qué material está hecha la máscara EUV?

La máscara de EUV es reflectante, pero nuestra máscara común es transmisiva, ¿por qué sucede esto?

¿Por qué la máscara de EUV es reflectante?

La longitud de onda de la luz EUV es de 13,5 nm y esta longitud de onda extremadamente corta se absorbe fuertemente al atravesar cualquier material, lo que hace que no haya ningún material transparente adecuado para transmitir eficazmente la luz EUV, lo que hace que las máscaras de transmisión tradicionales no sean viables en la litografía EUV. Estructura de la máscara EUV

Como se muestra en la figura anterior, la máscara EUV adopta una estructura de película multicapa que utiliza el principio de reflexión de Bragg para reflejar la luz EUV. Puede alcanzar una reflectividad de hasta aproximadamente el 70 %, lo que mejora la precisión y la eficiencia de la litografía.
Recubrimiento antirreflejo (ARC) (Anti-Reflective Coating): Reduce el reflejo en la superficie de la retícula y aumenta la eficiencia de la absorción de la luz. Absorbente: La capa de cambium real del patrón litográfico que absorbe la luz EUV no reflejada. Generalmente, los materiales de la capa absorbente son Ta, TaN, TaBN, etc. Recubrimiento de Ru: Protege la estructura de la membrana multicapa contra la oxidación y el daño.

Espejo multicapa Mo/Si (espejo multicapa molibdeno/silicio): se depositan de 40 a 50 capas alternas de silicio y molibdeno sobre el sustrato LTEM como una capa reflectante Bragg para lograr la máxima reflexión de EUV en la longitud de onda de 13,5 nm.
Material de baja expansión térmica (LTEM) (material de baja expansión térmica): material de sustrato de máscara con alta estabilidad térmica y cambio dimensional mínimo frente a cambios drásticos de temperatura.

Recubrimiento posterior conductor (recubrimiento posterior conductor): generalmente compuesto de nitruro de cromo para reducir la acumulación estática y facilitar la retención electrostática.