¿Qué métodos de recubrimiento pueden generar películas delgadas de monocristales?

¿Cuál es la diferencia entre los equipos CVD, PVD y epitaxial?

Categoría de CVD, PVD y proceso epitaxial

Enfermedad cardiovascular, enfermedad vascular periférica,?
Proceso de desoxidación: LPCVD, APCVD, SACVD, PECVD, HDPCVD, FCVD, MOCVD, etc.
PVD: Evaporación por haz de electrones, pulverización catódica por magnetrón, PLD (deposición por láser pulsado), etc.

Epitaxial: epitaxia de haz molecular MBE, epitaxia en fase gaseosa VPE, epitaxia en fase líquida LPE, epitaxia en fase sólida SPE, etc.

Entre ellos, la CVD, la PVD y la epitaxia son similares en principio, y hay muchas formas de clasificarlos, y el anterior es mi método de clasificación.

Mecanismo de formación de película deEnfermedad cardiovascular y enfermedad vascular poliquísticay¿Epitaxial?

Como se muestra en la figura anterior, no es de extrañar que los tres métodos anteriores de deposición de película delgada sean los anteriores:

Modo de crecimiento capa por capa 2D En este método de recubrimiento, el crecimiento de la película fina se lleva a cabo capa por capa, y cada capa de átomos o moléculas cubre completamente la superficie de la oblea antes de que comience la siguiente capa. Este modo de crecimiento puede dar como resultado superficies de película muy planas, como estructuras de superred.

Crecimiento de islas en 3D (Volmer-Weber)

En este modo, el crecimiento de la película ya no se produce capa por capa, sino que se forman islas discontinuas en algunas zonas localizadas de la superficie de la oblea, que aumentan gradualmente y acaban cubriendo toda la oblea. La fuerza de interacción entre la película resultante y el sustrato es débil y la energía libre superficial de la película es grande.

Crecimiento en modo mixto En este modo de crecimiento

La película crecerá inicialmente capa por capa durante un período de tiempo y cuando alcance un cierto espesor, debido a la acumulación de tensión, comenzará a formar una estructura similar a una isla. En términos generales, los métodos que pueden hacer crecer películas delgadas de un solo cristal incluyen epitaxia de haz molecular MBE, epitaxia en fase gaseosa VPE, epitaxia en fase líquida LPE, epitaxia en fase sólida SPE, MOCVD, PLD (deposición por láser pulsado). El modo de crecimiento capa por capa 2D facilita la formación de monocristales, mientras que la CVD y la PVD se pueden utilizar para generar cristales policristalinos o amorfos ajustando las condiciones del proceso.