(Recubrimiento posterior conductor): generalmente compuesto de nitruro de cromo para reducir la acumulación de estática y facilitar la retención electrostática.

La tecnología de litografía es una parte vital de la fabricación de semiconductores actual y su grado avanzado determina directamente el rendimiento y la calidad de la fabricación de chips. En este informe se presentará la tecnología de litografía más avanzada y se analizará su transformación de tradicional a avanzada.
I. TélHcabeza de laEempresa
En la actualidad, en el campo de la tecnología litográfica, las empresas líderes incluyen principalmente a ASML de los Países Bajos, Nikon y Canon de Japón. Entre ellas, ASML es el mayor proveedor mundial de máquinas litográficas, con una participación de mercado de más del 90%. La tecnología ultravioleta extrema (EUV) de ASML es actualmente la tecnología litográfica más avanzada y se utiliza ampliamente en la fabricación de chips.

segundo.ConvencionalLitografíaTTécnicas
Las técnicas de litografía convencionales utilizan principalmente luz ultravioleta (UV) o ultravioleta profunda (DUV) como fuente de luz. La desventaja de esta tecnología es que la resolución es limitada, lo que dificulta la fabricación de chips con mayor precisión y anchos de línea más pequeños. Además, la tecnología DUV requiere el uso de costosas máscaras litográficas cuando se fabrican chips avanzados, lo que aumenta los costos de producción. Por lo tanto, la tecnología litográfica tradicional ya no puede satisfacer las necesidades de fabricación de chips actuales.
segundo.Tecnología EUV
La tecnología EUV es un nuevo tipo de tecnología de litografía, su fuente de luz es ultravioleta extrema (EUV), la longitud de onda es de solo 13,5 nanómetros, que es más de 10 veces más corta que la longitud de onda de la tecnología DUV. Esto significa que la tecnología EUV tiene una resolución más alta y un ancho de línea más pequeño, lo que puede hacer posible chips más precisos. Además, la tecnología EUV requiere que se utilice solo una máscara para fabricar chips, lo que puede reducir significativamente los costos de producción.

Se han logrado avances significativos en la aplicación de la tecnología EUV en la fabricación de chips. Según IC Insights, la tecnología EUV representó el 5 % del mercado mundial de fabricación de chips en 2019, creció al 13 % en 2020 y se espera que alcance el 31 % en 2024. A partir de 2022, ASML ha entregado máquinas de litografía EUV a más de 40 fabricantes de chips de todo el mundo, incluidas empresas reconocidas como Samsung e Intel.


IV.Desafíos de la tecnología EUV
Aunque la aplicación de la tecnología EUV en la fabricación de chips se ha desarrollado rápidamente, todavía enfrenta algunos desafíos. En primer lugar, el precio del equipo de la tecnología EUV es alto y el precio de una máquina de litografía EUV puede alcanzar decenas de millones de dólares o incluso más, lo que es inasequible para algunas pequeñas empresas de fabricación de chips. En segundo lugar, la estabilidad y confiabilidad de la tecnología EUV aún deben mejorarse, lo que requiere fuentes de luz y máscaras de mayor calidad, así como un diseño y fabricación de máquinas de mayor precisión. Además, la eficiencia de producción de la tecnología EUV debe mejorarse y la capacidad de fabricación por hora actual está lejos de satisfacer las necesidades de producción de chips a gran escala.

V. Perspectivas de futuro
Aunque la tecnología EUV aún enfrenta algunos desafíos, se ha convertido en una tendencia importante en el campo actual de fabricación de chips y las perspectivas de desarrollo futuras son prometedoras. Con el desarrollo continuo de la ciencia y la tecnología, el precio de los equipos para la tecnología EUV disminuirá gradualmente, la estabilidad y la confiabilidad también mejorarán y la eficiencia de fabricación se mejorará. Además, es posible que surjan tecnologías de litografía más avanzadas en el futuro, como la litografía basada en cristales fotónicos y la tecnología de autoensamblaje, que se espera que mejoren aún más la precisión de fabricación y la eficiencia de producción de chips.
En conclusión, el desarrollo de la tecnología litográfica es crucial para la industria de los semiconductores, y la tecnología EUV, como la tecnología litográfica más avanzada, ha sido ampliamente utilizada y seguirá siendo una de las principales tendencias en la fabricación de chips en el futuro.